MASK RECORDING TECHNIQUE OF ON MULTILAYERED COATINGS (part 2)-Reference-Cited by-同舟云学术

MASK RECORDING TECHNIQUE OF ON MULTILAYERED COATINGS (part 2)

Published:2020-07-08 Issue:1 Volume:8 Page:134-138
ISSN:2618-981X
Container-title:Interexpo GEO-Siberia
language:
Short-container-title:

Author:

Gurin Nikita A.¹,Korolkov Viktor P.²,Batomunkuev Yury T.³,Spesivtsev Evgeny V.⁴

Affiliation:

1. Siberian State University of Geosystems and Technologies; JSC "Novosibirsk Instrument-Making Plant"

2. Institute of Automation and Electrometry SB RAS

3. Siberian State University of Geosystems and Technologies

4. Institute of Semiconductor Physics, named after A.V. Rzhanova SB RAS

Abstract

The experimental determination of the reflection coefficients in the visible region of the spectrum of chromium oxide films unexposed and exposed to laser radiation was performed. The reflection coefficients were measured using a Linza - 150 spectrophotometer (operating spectrum range from 380 to 1700 nm). The obtained characteristic values of the reflection coefficients of samples of chromium oxide films at different wavelengths are presented in the table and in the form of graphs. It was found that the reflectance of the chromium oxide film before exposure to laser radiation monotonically decreases with increasing wavelength from 380 to 450 nm, with a further increase in wavelength to 630 nm, the reflectance increases monotonically. This work is part of the development of a technique for recording masks by focused laser radiation on multilayer absorbing coatings.

Publisher

Siberian State University of Geosystems and Technologies

Subject

Industrial and Manufacturing Engineering

Reference20 articles.

1. Современное состояние исследований и технические применения / Физика тонких пленок // под общ. ред. Г. Хасса, Г. Х. Франкомба, Р. У. Гофмана; перевод с анг. под редакцией Б.Б. Сандомирского, А.Г. Ждана. - М.: Мир, 1967-1978. - Т. 8.

2. Вейко В.П., Корольков В.П., Полещук А.Г., Саметов А.Р., Шахно Е.А., Ярчук М.В. Исследование пространственного разрешения лазерной термохимической технологии записи дифракционных микроструктур / Квантовая электроника. - 2011. - Т. 41, № 7. - С. 631 - 636.

3. Агафонов А.Н. Исследование параметров микроструктуры пленок хрома и их влияния на результаты локального термохимического окисления под действием лазерного излучения / Научно-технический вестник Санкт-Петербургского государственного университета информационных технологий, механики и оптики. - 2010. - № 5. - С. 17 - 21.

4. Полещук А.Г., Корольков В.П., Седухин А.Г., Саметов А.Р., Шиманский Р.В. Прямая лазерная запись в плёнках хрома полутоновых микроизображений с большим динамическим диапазоном / Автометрия. - 2015. - Т. 51, № 3.- С. 87-93.

5. Гурин Н.А., Корольков В.П., Батомункуев Ю.Ц., Спесивцев Е.В. Методика записи масок по многослойным покрытиям (часть 1) // Сборник материалов Национальной конференции «СИБОПТИКА-2019». - 2019. - Т. 8.- С. 47-51.